PAS NORMAL STUDIOS Off Race Stow Away Jaqueta

Presentem la Jaqueta Off-Race Stow Away, dissenyada per a una protecció fiable contra les condicions meteorològiques imprevisibles. Fabricada amb niló tissat resistents al vent i un tractament DWR, aquesta jaqueta té punys elàstics a la vora, als punys i a la caputxa per a un ajust segur. Altres característiques pràctiques inclouen un cordó amagat a la caputxa i una butxaca de doble cremallera a la part posterior.

• 100% niló tissat
• Tela de 60gsm
• Tres butxaques amb cremallera superposades
• Logos impresos de Pas Normal Studios i R.T.N.
• Bolsa interna per a guardar la jaqueta

Per a instruccions de neteja, rentar a 30° amb detergent no biològic i evitar l'ús de lleixiu.