PAS NORMAL STUDIOS Off Race Stow Away Jaqueta

Presentem la Jaqueta Off-Race Stow Away, dissenyada per protegir-te de les condicions meteorològiques imprevisibles. Fabricada amb niló tèxtil resistents al vent i tractament DWR, aquesta jaqueta té extrems elàstics a la vora, punys i caputxa per un ajust segur. Altres característiques pràctiques inclouen un cordó amagat a la caputxa i una butxaca amb doble cremallera a la part posterior.

• 100% niló tèxtil
• Tela de 60gsm
• Tres butxaques amb cremallera superposades
• Logos impresos de Pas Normal Studios i R.T.N.
• Bolsa interna per guardar la jaqueta

Per a instruccions de neteja, renta a 30° amb detergent no biològic i evita l'ús de lleixiu.